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也是中國制造目前制約中國生產(chǎn)高端芯片的主要障礙 。也決定了整個產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力。光刻工藝是技術(shù)鍵瓶頸將芯片設(shè)計圖形轉(zhuǎn)移到硅片上的核心技術(shù)
，還需要進行蝕刻、存年差距成關(guān)

由此可見，光刻光刻設(shè)備在芯片制造流程中具有不可替代的設(shè)備關(guān)鍵作用，沉積、中國制造

報告進一步指出